| 講演抄録／キーワード |
| 講演名 |
2026-01-29 13:45
［ポスター講演］層状構造BNの減圧CVD成長における多形形成
○中野颯斗・竹村 晃・青山涼太・平岡晃輔・原 和彦・小南裕子（静岡大） |
| 抄録 |
（和） |
BCl3とNH3を原料とする減圧化学気相成長法(CVD)を用いる、c面サファイア基板上への層状構造窒化ホウ素(BN)薄膜の成長において、作製条件が多形形成に与える影響を調べた。本研究で変化させた条件は成長雰囲気と原料ガス流量であり、六方晶窒化ホウ素(h-BN)と菱面体晶窒化ホウ素(r-BN) に着目して試料の評価を行った。成長雰囲気については、N2、H2、またはAr中で成長を行ったところ、全ての試料でr-BNの形成が支配的であったが、H2中ではh-BNの形成が促進されることがわかった。原料ガス流量については、NH3流量が大きい条件でh-BNの形成が支配的であることがわかった。これらの結果から、特定の多形が形成され易い要因について考察した。 |
| （英） |
The effects of growth conditions on the formation of polytypes were investigated in the thin film growth of boron nitrides (BN) with layered crystal structures on c-plane sapphire substrates using low-pressure chemical vapor deposition (CVD) with BCl₃ and NH₃ as source materials. The conditions varied in this study were the growth atmosphere and the source gas flow rate. Samples were characterized focusing on hexagonal boron nitride (h-BN) and rhombohedral boron nitride (r-BN). Regarding the growth atmosphere, growth was performed in N₂, H₂, or Ar. While r-BN formation was dominant in all samples, h-BN formation was promoted in H₂. Regarding the source gas flow rate, h-BN formation was dominant under conditions with a high NH₃ flow rate. Based on these results, factors favoring the formation of specific polymorphs were discussed. |
| キーワード |
（和） |
六方晶窒化ホウ素 / 菱面体晶窒化ホウ素 / 化学気相法 / X線回折 / カソードルミネッセンス / / / |
| （英） |
hexagonal boron nitride / rhombohedral boron nitride / chemical vapor deposition / X-ray diffraction / cathodoluminescence / / / |
| 文献情報 |
映情学技報, vol. 50, no. 2, IDY2026-1, pp. 1-4, 2026年1月. |
| 資料番号 |
IDY2026-1 |
| 発行日 |
2026-01-22 (IDY) |
| ISSN |
Online edition: ISSN 2424-1970 |
| PDFダウンロード |
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| 研究会情報 |
| 研究会 |
IEICE-EID IDY IEE-EDD SID-JC IEIJ-SSL |
| 開催期間 |
2026-01-29 - 2026-01-30 |
| 開催地（和） |
サンポートホール高松 |
| 開催地（英） |
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| テーマ（和） |
発光型／非発光型ディスプレイ合同研究会，一般 |
| テーマ（英） |
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| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
IDY |
| 会議コード |
2026-01-EID-IDY-EDD-JC-SSL |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル（和） |
層状構造BNの減圧CVD成長における多形形成 |
| サブタイトル（和） |
|
| タイトル（英） |
Formation of polytypes in layered BN thin films grown by low-pressure chemical vapor deposition |
| サブタイトル（英） |
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| キーワード(1)（和/英） |
六方晶窒化ホウ素 / hexagonal boron nitride |
| キーワード(2)（和/英） |
菱面体晶窒化ホウ素 / rhombohedral boron nitride |
| キーワード(3)（和/英） |
化学気相法 / chemical vapor deposition |
| キーワード(4)（和/英） |
X線回折 / X-ray diffraction |
| キーワード(5)（和/英） |
カソードルミネッセンス / cathodoluminescence |
| キーワード(6)（和/英） |
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| キーワード(7)（和/英） |
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| キーワード(8)（和/英） |
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| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） |
中野 颯斗 / Hayato Nakano / ナカノ ハヤト |
| 第1著者 所属（和/英） |
静岡大学 (略称： 静岡大)
Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） |
竹村 晃 / Akira Takemura / タケムラ アキラ |
| 第2著者 所属（和/英） |
静岡大学 (略称： 静岡大)
Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） |
青山 涼太 / Ryota Aoyama / アオヤマ リョウタ |
| 第3著者 所属（和/英） |
静岡大学 (略称： 静岡大)
Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） |
平岡 晃輔 / Kosuke Hiraoka / ヒラオカ コウスケ |
| 第4著者 所属（和/英） |
静岡大学 (略称： 静岡大)
Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） |
原 和彦 / Kazuhiko Hara / ハラ カズヒコ |
| 第5著者 所属（和/英） |
静岡大学 (略称： 静岡大)
Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） |
小南 裕子 / Hiroko Kominami / コミナミ ヒロコ |
| 第6著者 所属（和/英） |
静岡大学 (略称： 静岡大)
Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2026-01-29 13:45:00 |
| 発表時間 |
5分 |
| 申込先研究会 |
IDY |
| 資料番号 |
IDY2026-1 |
| 巻番号（vol） |
vol.50 |
| 号番号（no） |
no.2 |
| ページ範囲 |
pp.1-4 |
| ページ数 |
4 |
| 発行日 |
2026-01-22 (IDY) |