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講演抄録/キーワード
講演名 2026-07-29 13:30
[招待講演]集積素子応用に向けた高移動度酸化物半導体の原子層堆積方法
高橋崇典・○浦岡行治奈良先端大
抄録 (和) Ga添加In₂O₃(poly-IGO)ナノシートの形成プロセス、電子輸送特性、およびFET特性を報告する。5 nm厚で120 cm²/Vs級の高移動度と優れた膜厚スケーリング特性を達成し、格子歪みと移動度の相関を明らかにした。高移動度酸化物半導体チャネルの設計指針について議論する。 
(英) We report high-mobility Ga-doped In₂O₃ (poly-IGO) nanosheet FETs exhibiting excellent thickness scalability and clarify the relationship between lattice strain and electron transport properties for next-generation oxide semiconductor applications.
キーワード (和) 酸化物半導体 / Ga添加In₂O₃ / ナノシートFET / 高移動度チャネル / / / /  
(英) Oxide Semiconductor / Ga-doped In₂O₃ / ,Nanosheet FET / High-Mobility Channel / / / /  
文献情報 映情学技報, vol. 50, no. 20, IDY2026-35, pp. 5-9, 2026年7月.
資料番号 IDY2026-35 
発行日 2026-07-22 (IDY) 
ISSN Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IDY IEICE-EID SID-JC  
開催期間 2026-07-29 - 2026-07-29 
開催地(和) 機械振興会館 6階65号室+ZOOM 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. +Zoom 
テーマ(和) ディスプレイ一般 
テーマ(英) Information Display 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IDY 
会議コード 2026-07-IDY-EID-JC 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 集積素子応用に向けた高移動度酸化物半導体の原子層堆積方法 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Atomic Layer Deposition of High Mobility Oxide Semiconductors for Integrated Device Applications 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 酸化物半導体 / Oxide Semiconductor  
キーワード(2)(和/英) Ga添加In₂O₃ / Ga-doped In₂O₃  
キーワード(3)(和/英) ナノシートFET / ,Nanosheet FET  
キーワード(4)(和/英) 高移動度チャネル / High-Mobility Channel  
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キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 高橋 崇典 / Takanori Takahashi / タカハシ タカノリ
第1著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: 奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 浦岡 行治 / Yukiharu Uraoka / ウラオカ ユキハル
第2著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学 (略称: 奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology (略称: NAIST)
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講演者 第2著者 
発表日時 2026-07-29 13:30:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 IDY 
資料番号 IDY2026-35 
巻番号(vol) vol.50 
号番号(no) no.20 
ページ範囲 pp.5-9 
ページ数
発行日 2026-07-22 (IDY) 


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