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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD
(連催) [詳細]		 2020-01-23
13:10		 鳥取 鳥取大鳥取キャンパス ［ポスター講演］ZnO系ナノ粒子分散薄膜のミストCVD
○大城巨暉・小野田翔悟・奈良俊宏・小南裕子・原　和彦（静岡大） 		新規の蛍光体応用のための材料としてナノ粒子分散半導体薄膜を提案し，その一例として，ZnOナノ粒子分散Ga2O3薄膜の作製... [more] IDY2020-3
pp.5-8
IEICE-SDM, IEICE-EID
(共催)
IDY
(連催) [詳細]		 2019-12-24
14:05		 奈良 奈良先端大(物質領域 大講義室） Al2O3絶縁膜上に作製したGa-Sn-O TFT
○服部一輝・谷野健太・松田時宜・木村　睦（龍谷大）・川原村敏幸・劉　麗（高知工科大） 		絶縁体層としてAl2O3膜をミストCVD法 (mist CVD) により作製し，Al2O3膜の有無によるGa-Sn-O薄... [more] IDY2019-70
pp.9-12
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD
(連催)		 2011-01-28
14:40		 高知 高知工科大学 ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 ～ 大気圧下、低温成長への挑戦 ～
○川原村敏幸（高知工大）・織田容征・白幡孝洋（TMEIC）・井川拓人・伊藤大師（京大院工）・吉田章男（TMEIC）・藤田静雄（京大院工）・平尾　孝（高知工大） 		酸化マグネシウム(MgO)薄膜はディスプレイなどの保護膜や反射防止膜として、開発要望が高いが、現在その作製方法の大半は、... [more] IDY2011-3
pp.45-48
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