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講演抄録/キーワード
講演名 2016-08-03 15:05
線幅2nmの超微細シリコンナノワイヤトランジスタにおけるDIBLばらつきおよびデバイス内ばらつき
水谷朋子竹内 潔鈴木龍太更屋拓哉小林正治平本俊郎東大
抄録 (和) 超微細シリコンナノワイヤトランジスタにおけるDIBLばらつきを測定し,統計解析を行った.線幅が2nmまで減少すると,DIBLばらつきおよびデバイス内ばらつきは急激に増大する.このばらつきの増大は,ソース/ドレイン間のナノワイヤ幅の非対称性に起因する量子閉じ込め効果によると考えられる. 
(英) The effects of drain voltage in threshold voltage variability in extremely narrow silicon nanowire (NW) channel FETs are measured and statistically analyzed. It was found that the drain-induced variability and “within-device” variability increase as the NW width decreases to 2nm. The origin of the increased variability is ascribed to quantum confinement due to NW width asymmetry at the source and drain.
キーワード (和) ナノワイヤトランジスタ / ばらつき / DIBL / / / / /  
(英) Nanowire MOSFET / Variability / DIBL / / / / /  
文献情報 映情学技報
資料番号  
発行日  
ISSN Print edition: ISSN 1342-6893  Online edition: ISSN 2424-1970
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研究会情報
研究会 IEICE-ICD IEICE-SDM IST  
開催期間 2016-08-01 - 2016-08-03 
開催地(和) 中央電気倶楽部 
開催地(英) Central Electric Club 
テーマ(和) アナログ、アナデジ混載、RF及びセンサインタフェース回路、低電圧/低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用 
テーマ(英) Analog, Mixed Analog and Digital, RF, and Sensor Interface, Low voltage/low power techniques, novel devices, circuits, and applications 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 IEICE-SDM 
会議コード 2016-08-ICD-SDM-IST 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 線幅2nmの超微細シリコンナノワイヤトランジスタにおけるDIBLばらつきおよびデバイス内ばらつき 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Increased Drain-Induced Variability and Within-Device Variability in Extremely Narrow Silicon Nanowire MOSFETs with Width down to 2nm 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ナノワイヤトランジスタ / Nanowire MOSFET  
キーワード(2)(和/英) ばらつき / Variability  
キーワード(3)(和/英) DIBL / DIBL  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 水谷 朋子 / Tomoko Mizutani / ミズタニ トモコ
第1著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
The University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 竹内 潔 / Kiyoshi Takeuchi / タケウチ キヨシ
第2著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
The University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 鈴木 龍太 / Ryota Suzuki / ズズキ リョウタ
第3著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
The University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 更屋 拓哉 / Takuya Saraya / サラヤ タクヤ
第4著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
The University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 小林 正治 / Masaharu Kobayashi / コバヤシ マサハル
第5著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
The University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 平本 俊郎 / Toshiro Hiramoto / ヒラモト トシロウ
第6著者 所属(和/英) 東京大学 (略称: 東大)
The University of Tokyo (略称: Univ. of Tokyo)
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講演者
発表日時 2016-08-03 15:05:00 
発表時間 25 
申込先研究会 IEICE-SDM 
資料番号  
巻番号(vol) ITE-40 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数 ITE- 
発行日  


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