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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
ME, IEE-CMN
(連催)
IEICE-IE, IEICE-LOIS, IEICE-EMM
(共催)
(連催) [詳細]		 2011-09-20
13:00		 愛媛 愛媛大学 ユーザによる直接入力を利用した携帯端末向け鍵交換方式の研究
○小松佐典・清水明宏（高知工科大） 		 [more]
ME, IEE-CMN
(連催)
IEICE-IE, IEICE-LOIS, IEICE-EMM
(共催)
(連催) [詳細]		 2011-09-20
13:25		 愛媛 愛媛大学 QRコードへの電子透かし実装に関する研究
○苅田光一郎・清水明宏（高知工科大） 		 [more]
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD
(連催)		 2011-01-28
13:00		 高知 高知工科大学 ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 ～ スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て ～
○王　大鵬・川原村敏幸・李　朝陽・平尾　孝（高知工大） 		非常に効率の良い蛍光体の開発は、ディスプレイ産業界の発展につながる。蛍光体は、現在粉末蛍光体が主体であり、保持の問題やマ... [more] IDY2011-1
pp.1-3
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD
(連催)		 2011-01-28
14:40		 高知 高知工科大学 ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 ～ 大気圧下、低温成長への挑戦 ～
○川原村敏幸（高知工大）・織田容征・白幡孝洋（TMEIC）・井川拓人・伊藤大師（京大院工）・吉田章男（TMEIC）・藤田静雄（京大院工）・平尾　孝（高知工大） 		酸化マグネシウム(MgO)薄膜はディスプレイなどの保護膜や反射防止膜として、開発要望が高いが、現在その作製方法の大半は、... [more] IDY2011-3
pp.45-48
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD
(連催)		 2011-01-29
09:55		 高知 高知工科大学 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成
○松田時宜・古田　守・平松孝浩・古田　寛・平尾　孝（高知工大） 		 [more]
IDY, IEICE-EID
(連催)		 2010-11-26
15:30		 東京 機械振興会館 ＩＭＩＤ報告会 ～ ＴＦＴ関係 ～
○古田　守（高知工科大） 		韓国で開催された国際会議IMID/IDMC/ASIA DISPLAY 2010に関して、TFTに関連した報告内容を紹介す... [more] IDY2010-82
pp.17-19
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