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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
IEICE-EID, IEICE-SDM
(共催)
IDY
(連催) [詳細]		 2020-12-02
14:30		 京都 龍谷大学 響都ホール 校友会館 ［特別招待講演］酸化物半導体の低温欠陥制御とフレキシブルデバイス応用
○曲　勇作・古田　守（高知工大） 		 [more]
IEICE-EID, IEICE-SDM
(共催)
IDY
(連催) [詳細]		 2018-12-25
11:45		 京都 龍谷大学 響都ホール 校友会館 ミストCVD法によるGTO薄膜を用いたデバイス
○滝下雄太・杉崎澄夫（龍谷大）・是友大地・曲　勇作・古田　守（高知工科大）・松田時宜・木村　睦（龍谷大） 		非真空プロセスであるミストCVD法により，レアメタルフリーなGa-Sn-O(GTO)薄膜を成膜し，それを用いたデバイスを... [more] IDY2018-57
pp.13-16
IEICE-EID, IEICE-SDM
(共催)
IDY
(連催) [詳細]		 2018-12-25
14:30		 京都 龍谷大学 響都ホール 校友会館 Ga-Sn-O薄膜の熱電特性及び構造のアニール依存性
○池口　翼・荒牧達也（龍谷大）・梅田鉄馬・上沼睦典（奈良先端大）・是友大地・曲　勇作・古田　守（高知工科大）・木村　睦（龍谷大） 		RFマグネトロンスパッタリング装置を用いてGa-Sn-O(GTO)薄膜を成膜し，成膜圧力及び結晶構造が熱電特性に与える影... [more] IDY2018-59
pp.33-36
SID-JC, IEIJ-SSL
(共催)
IEICE-EID, IDY, IEE-EDD
(連催) [詳細]		 2016-01-28
15:04		 富山 富山大学 プラズマ処理による低抵抗IGZO領域の形成とセルフアライン型TFTへの応用 ～ プラズマ処理時の基板バイアスの効果 ～
○曲　勇作・戸田達也・牧野久雄・古田　守（高知工科大） 		 [more]
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