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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SID-JC
(共催)
IDY, IEICE-EID
(連催) [詳細]		 2024-08-02
15:45		 ONLINE オンライン開催（ZOOM） ［招待講演］ハイブリッドバックプレーン向け高信頼性IGZO TFT開発による高精細HMDの量産化
○蜂谷篤史・アマン メハディ（シャープ）・Hsin-Ying Chiu（リアリティ・ラボ）・篠原卓志（シャープ）・Wan Yu Lin・Hossein Nemati（リアリティ・ラボ）・竹内洋平・伊東一篤・齊藤裕一・古川博章・武田悠二郎・松木薗広志（シャープ）・Linghui Rao・Jacob Choi（リアリティ・ラボ）・伊藤康尚（シャープ）・Jim Zhuang（リアリティ・ラボ） 		CMOS-LTPSとIGZO TFTのハイブリッドバックプレーン技術を使用したQuest 3用の2.48インチ、1,21... [more] IDY2024-30
pp.22-26
IDY, SID-JC
(共催)		 2024-03-08
16:00		 ONLINE オンライン（Zoom） ［招待講演］プラスチック貫通ビアを用いたフレキシブルベゼルレスマイクロLEDディスプレイの開発
○辻　博史・武井達哉・宮川幹司（NHK）・山本敏裕（NHK財団）・本村玄一・藤崎好英・中田　充（NHK） 		基板となるポリイミドフィルムを貫通するプラスチック貫通ビア（TPV: Through-plastic via）を用い，基... [more] IDY2024-23
pp.36-39
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD
(連催) [詳細]		 2020-01-24
11:10		 鳥取 鳥取大鳥取キャンパス ［ポスター講演］低温形成した陽極酸化アルミナ絶縁膜の膜物性評価とそのデバイス応用
○河野守哉・森　海・是友大地・古田　守（高知工科大） 		フレキシブル薄膜トランジスタ(TFT)のゲート絶縁膜応用を目的とし、陽極酸化により低温形成した酸化アルミナ(Al2O3)... [more]
IEICE-SDM, IEICE-EID
(共催)
IDY
(連催) [詳細]		 2019-12-24
14:05		 奈良 奈良先端大(物質領域 大講義室） Al2O3絶縁膜上に作製したGa-Sn-O TFT
○服部一輝・谷野健太・松田時宜・木村　睦（龍谷大）・川原村敏幸・劉　麗（高知工科大） 		絶縁体層としてAl2O3膜をミストCVD法 (mist CVD) により作製し，Al2O3膜の有無によるGa-Sn-O薄... [more] IDY2019-70
pp.9-12
IDY, SID-JC
(共催)
IEICE-EID
(連催) [詳細]		 2018-07-30
14:15		 東京 機械振興会館 ［依頼講演］フレキシブル基板へ向けたトップゲート酸化物TFTの開発
○山口陽平・川中子　寛・鈴村　功（JDI） 		本研究では、プラスティック基板を用いた液晶ディスプレイ(LCD)向けの薄膜トランジスタ(TFT)技術を開発した。G4.5... [more] IDY2018-36
pp.13-16
IDY 2018-03-08
15:00		 東京 機械振興会館 ［依頼講演］TFT作製プロセスによりa-IGZO-TFTに導入される水素関連欠陥の光誘起電流過渡分光法による評価
○林　和志・越智元隆・日野　綾・後藤裕史・釘宮敏洋（神戸製鋼所） 		In-Ga-Zn-O（IGZO）に代表されるアモルファス酸化物半導体は、高い電子移動度が比較的容易に得られるため次世代高... [more] IDY2018-19
pp.21-26
IDY 2018-03-08
15:50		 東京 機械振興会館 ［依頼講演］高信頼性酸化物TFT基板を実現するAlOスパッタリング法によるセルフアライン構造形成技術
○林　宏・村井淳人・三浦正範・寺井康浩・大島宜浩・齊藤　徹・廣升泰信・荒井俊明（JOLED） 		ディスプレイの高精細化・高速駆動に適したセルフアライン型トップゲート酸化物TFTの新たな作製プロセスを開発した．本プロセ... [more] IDY2018-21
pp.31-35
IDY 2017-02-24
15:55		 東京 機械振興会館 ［招待講演］独自の塗布型材料を用いた高信頼性酸化物TFT
○平野由希子・草柳嶺秀・新江定憲・早乙女遼一・曽根雄司・松本真二・中村有希・安藤友一・植田尚之・山田勝幸（リコー） 		独自組成の酸化物材料とそのインクを開発しTFTを作製した。半導体層にはドープ型の酸化物半導体を、ゲート絶縁膜にはhigh... [more] IDY2017-23
pp.23-27
IST 2016-03-11
16:20		 東京 ＮＨＫ技研講堂 有機光導電膜3層を用いたカラー撮像デバイス
○堺　俊克・瀬尾北斗・高木友望・久保田　節・大竹　浩（NHK）・古田　守（高知工科大） 		我々は，次世代の超小型・高画質なカラーカメラを目指して，光の3原色のそれぞれにのみ感度を持つ有機光導電膜3層を積層した単... [more] IST2016-19
pp.49-52
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