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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
IEICE-EID, IEICE-SDM
(共催)
IDY
(連催) [詳細]
2018-12-25
11:45
京都 龍谷大学 響都ホール 校友会館 ミストCVD法によるGTO薄膜を用いたデバイス
滝下雄太杉崎澄夫龍谷大)・是友大地曲 勇作古田 守高知工科大)・松田時宜木村 睦龍谷大
非真空プロセスであるミストCVD法により,レアメタルフリーなGa-Sn-O(GTO)薄膜を成膜し,それを用いたデバイスを... [more] IDY2018-57
pp.13-16
IEICE-EID, IEICE-SDM
(共催)
IDY
(連催) [詳細]
2018-12-25
14:30
京都 龍谷大学 響都ホール 校友会館 Ga-Sn-O薄膜の熱電特性及び構造のアニール依存性
池口 翼荒牧達也龍谷大)・梅田鉄馬上沼睦典奈良先端大)・是友大地曲 勇作古田 守高知工科大)・木村 睦龍谷大
RFマグネトロンスパッタリング装置を用いてGa-Sn-O(GTO)薄膜を成膜し,成膜圧力及び結晶構造が熱電特性に与える影... [more] IDY2018-59
pp.33-36
IST 2016-03-11
16:20
東京 NHK技研講堂 有機光導電膜3層を用いたカラー撮像デバイス
堺 俊克瀬尾北斗高木友望久保田 節大竹 浩NHK)・古田 守高知工科大
我々は,次世代の超小型・高画質なカラーカメラを目指して,光の3原色のそれぞれにのみ感度を持つ有機光導電膜3層を積層した単... [more] IST2016-19
pp.49-52
SID-JC, IEIJ-SSL
(共催)
IEICE-EID, IDY, IEE-EDD
(連催) [詳細]
2016-01-28
15:04
富山 富山大学 プラズマ処理による低抵抗IGZO領域の形成とセルフアライン型TFTへの応用 ~ プラズマ処理時の基板バイアスの効果 ~
曲 勇作戸田達也牧野久雄古田 守高知工科大
 [more]
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD
(連催)
2013-01-25
10:10
静岡 静岡大学 非真空プロセス「ミストCVD法」でのIGZO/AlOx酸化物TFTの作製とその特性
川原村敏幸内田貴之王 大鵬眞田 克古田 守高知工科大
昨年、大気圧下で汎用の試薬を用いて金属酸化物薄膜を作製する事が可能なミストCVD法を用いて、絶縁膜(AlOx)及び活性層... [more] IDY2013-8
pp.73-76
IDY, IEICE-EID, IEE-EDD, IEIJ-OMD
(連催)
2011-01-29
09:55
高知 高知工科大学 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成
松田時宜古田 守平松孝浩古田 寛平尾 孝高知工大
 [more]
IDY, IEICE-EID
(連催)
2010-11-26
15:30
東京 機械振興会館 IMID報告会 ~ TFT関係 ~
古田 守高知工科大
韓国で開催された国際会議IMID/IDMC/ASIA DISPLAY 2010に関して、TFTに関連した報告内容を紹介す... [more] IDY2010-82
pp.17-19
IST 2008-12-16
14:00
東京 東京大学本郷キャンパス 山上会館 酸化亜鉛TFTを信号読出し回路に用いた有機膜積層型撮像デバイス
瀬尾北斗相原 聡難波正和渡部俊久大竹 浩久保田 節江上典文NHK)・平松孝浩松田時宜古田 守平尾 孝高知工大
青・緑・赤色光のそれぞれに対してのみ感度を持つ有機光導電膜を積層した単板カラー撮像デバイスの検討を進めている.今回,青色... [more]
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